Logo Logo
Help
Contact
Switch Language to German
Kato, Y.; Iijima, T.; Adachi, I.; Aihara, H.; Al Said, S.; Asner, D. M.; Aulchenko, V.; Aushev, T.; Ayad, R.; Babu, V.; Badhrees, I.; Bakich, A. M.; Bansal, V.; Barberio, E.; Behera, P.; Bhardwaj, V.; Bhuyan, B.; Biswal, J.; Bozek, A.; Bracko, M.; Browder, T. E.; Cervenkov, D.; Chang, P.; Cheaib, R.; Chekelian, V.; Chen, A.; Cheon, B. G.; Chilikin, K.; Cho, K.; Choi, S.-K.; Choi, Y.; Cinabro, D.; Czank, T.; Dash, N.; Carlo, S. di; Dolezal, Z.; Drasal, Z.; Dutta, D.; Eidelman, S.; Epifanov, D.; Fast, J. E.; Ferber, T.; Fulsom, B. G.; Gaur, V.; Gabyshev, N.; Garmash, A.; Gelb, M.; Goldenzweig, P.; Greenwald, D.; Guido, E.; Haba, J.; Hayasaka, K.; Hayashii, H.; Hedges, M. T.; Hirose, S.; Hou, W.-S.; Inami, K.; Inguglia, G.; Ishikawa, A.; Itoh, R.; Iwasaki, M.; Iwasaki, Y.; Jacobs, W. W.; Jägle, I.; Jeon, H. B.; Jin, Y.; Joo, K. K.; Julius, T.; Kaliyar, A. B.; Kang, K. H.; Karyan, G.; Kawasaki, T.; Kichimi, H.; Kiesling, C.; Kim, D. Y.; Kim, J. B.; Kim, S. H.; Kim, Y. J.; Kinoshita, K.; Kodys, P.; Korpar, S.; Kotchetkov, D.; Krizan, P.; Kröger, R.; Krokovny, P.; Kuhr, T.; Kulasiri, R.; Kuzmin, A.; Kwon, Y.-J.; Lange, J. S.; Lee, I. S.; Li, C. H.; Li, L.; Gioi, L. Li; Libby, J.; Liventsev, D.; Lubej, M.; Luo, T.; Masuda, M.; Matsuda, T.; Merola, M.; Miyabayashi, K.; Miyata, H.; Mizuk, R.; Mohanty, G. B.; Moon, H. K.; Mori, T.; Mussa, R.; Nakano, E.; Nakao, M.; Nanut, T.; Nath, K. J.; Natkaniec, Z.; Nayak, M.; Niiyama, M.; Nisar, N. K.; Nishida, S.; Ogawa, S.; Okuno, S.; Ono, H.; Pakhlov, P.; Pakhlova, G.; Pal, B.; Park, C.-S.; Park, C. W.; Park, H.; Paul, S.; Pedlar, T. K.; Pestotnik, R.; Piilonen, L. E.; Ritter, M.; Rostomyan, A.; Sakai, Y.; Salehi, M.; Sandilya, S.; Sato, Y.; Savinov, V.; Schneider, O.; Schnell, G.; Schwanda, C.; Schwartz, A. J.; Seino, Y.; Senyo, K.; Sevior, M. E.; Shebalin, V.; Shen, C. P.; Shibata, T.-A.; Shiu, J.-G.; Simon, F.; Sokolov, A.; Solovieva, E.; Staric, M.; Strube, J. F.; Sumihama, M.; Sumisawa, K.; Sumiyoshi, T.; Takizawa, M.; Tamponi, U.; Tanida, K.; Tenchini, F.; Trabelsi, K.; Uchida, M.; Uehara, S.; Uglov, T.; Unno, Y.; Uno, S.; Urquijo, P.; Usov, Y.; Hulse, C. van; Varner, G.; Varvell, K. E.; Vorobyev, V.; Wang, C. H.; Wang, M.-Z.; Wang, P.; Watanabe, M.; Watanuki, S.; Widmann, E.; Won, E.; Yamashita, Y.; Ye, H.; Yelton, J.; Yuan, C. Z.; Yusa, Y.; Zhang, Z. P.; Zhilich, V.; Zhukova, V.; Zhulanov, V.; Zupanc, A. (2018): Measurements of the absolute branching fractions of B+ -> Xc(c)over-barK(+) and B+ -> (D)over-bar((*)0)pi(+) at Belle. In: Physical Review D, Vol. 97, No. 1, 12005
Full text not available from 'Open Access LMU'.

Abstract

We present the measurement of the absolute branching fractions of B+ -> Xc (c) over barK+ and B+ -> (D) over bar ((*)0)pi(+) decays, using a data sample of 772 x 10(6) B (B) over bar pairs collected at the gamma(4S) resonance with the Belle detector at the KEKB asymmetric-energy e(+)e(-) collider. Here, X-c (c) over bar denotes eta(c), J/psi, chi(c0), chi(c1), eta(c) (2S), psi(2S), psi(3770), X(3872), and X(3915). We do not observe significant signals for X(3872) or X(3915) and set the 90% confidence level upper limits at B(B+ -> X(3872)K+) < 2.6 x 10(-4) and B(B+ -> X(3915)K+) < 2.8 x 10(-4). These represent the most stringent upper limit for B(B+ -> X(3872)K+) to date and the first limit for B(B+ -> X(3915)K+). The measured branching fractions for eta(c) and eta(c)(2S) are the most precise to date, B(B+ -> eta K-c(+)) = (12.0 +/- 0.8 +/- 0.7) x 10(-4) and B(B+ -> eta(c)(2S)K+) = (4.8 +/- 1.1 +/- 0.3) x 10(-4), where the first and second uncertainties are statistical and systematic, respectively.

Search for authors
Export