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Zeitschriftenartikel

Matsui, Takayuki; Li, Yi; Hsu, Min-Hsiang Mark; Merckling, Clement; Oulton, Rupert F.; Cohen, Lesley F. und Maier, Stefan A. (2018): Highly Stable Plasmon Induced Hot Hole Transfer into Silicon via a SrTiO3 Passivation Interface. In: Advanced Functional Materials, Bd. 28, Nr. 17, 1705829

Diese Liste wurde am Sat Dec 21 21:45:08 2024 CET erstellt.

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