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Zeitschriftenartikel
Matsui, Takayuki; Li, Yi; Hsu, Min-Hsiang Mark; Merckling, Clement; Oulton, Rupert F.; Cohen, Lesley F. und Maier, Stefan A.
(2018):
Highly Stable Plasmon Induced Hot Hole Transfer into Silicon via a SrTiO3 Passivation Interface.
In: Advanced Functional Materials, Bd. 28, Nr. 17, 1705829